专利:一种利用改性蒙脱土富集回收低浓度稀土离子的方法

申请(专利)号:CN202110166551.5

申请日期:20210207

公开/公告号:CN112813291A

公开/公告日期:20210518

申请(专利权)人:武汉工程大学

发明人:周芳,刘旭,池汝安,冯健,徐源来,王志伟,黄素华

国省代号:CN420111

摘要:本发明提供一种利用改性蒙脱土富集回收低浓度稀土离子的方法,属于稀土离子富集技术领域,包括以下步骤;S1.制备改性蒙脱土:将蒙脱土与H2SO4溶液混合,60?100℃温度条件下水浴加热搅拌2?5小时,得改性蒙脱土;S2.吸附稀土离子:将步骤S1制得的改性蒙脱土放入含低浓度稀土离子的介质中,振荡10?17小时,得到稀土离子载体混合物;S3.固液分离:抽滤分离,收集稀土离子载体混合物的滤渣;S4.将步骤S3中所得的滤渣烘干得到稀土离子载体混合物固体;S5.稀土离子载体混合物固体与的(NH4)2SO4混合搅拌,离心,所得滤液为富集了稀土离子的滤液。本发明使蒙脱土晶体结构层间距变大,削弱层间结合力,结构更为疏松,对稀土离子的吸附能力提高8?11倍左右,洗脱率高于90%。


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